С учетом факторов, определяющих вес, габариты и время наработки на отказ электронных изделий, в таких направлениях электроники, как бортовые СВЧ‑устройства, программно‑определяемые радиосистемы, микроэлектромеханические МЭМС‑системы, оптические сенсоры и преобразователи, достичь приемлемых параметров, особенно для тяжелых условий эксплуатации, без применения 3D-интеграции невозможно. НПЦ СЭС оснащен технологиями производства 3D‑интегрированных подложек из керамики низкотемпературного обжига LTCC Low Temperature Co-fired Ceramic до 60 слоев с предельными габаритами 160×160 и толщиной до 12 мм.
Кристаллы устанавливаются контактно-реактивной пайкой или термокомпрессионной сваркой, в том числе, на преформу из эвтектического сплава. Кристаллы с выводами на поверхность устанавливаются методом flip-chip.
Контактные площадки на полупроводнике соединяются с подложкой металлической Au, Cu, Al проволокой. Сварка Au проволоки производится методом "шарик-клин". Сварка Al, Cu проволоки и плоской ленты — методом "клин-клин". Производится сплошное тестирование соединений на отрыв и сдвиг.
Вакуум-плотная герметизация, монтаж на подложку металлических крышек, крышек из кварцевого стекла, полупроводниковых пластин выполняется методами шовно-роликовой и лазерной сварки с проверкой на герметичность. Герметизация производится в перчаточном скафандре в атмосфере азота, расщепленной аммиачной среде или в вакууме.
Для оперативного взаимодействия с заказчиками создан конструкторско-технологический отдел КТО. Инженерный центр принимает исходную КД в любых CAD форматах и совместно с заказчиком детализирует требования к будущей продукции. Практикуется совместное EM моделирование, изготовление макетов и пробных партий для предварительных испытаний новой техники.